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當前位置:首頁產品中心三維X射線顯微鏡(XRM)D8 X射線衍射儀D8X射線衍射儀

X射線衍射儀
產品簡介

布魯克AXS公司全新的D8 ADVANCE X射線衍射儀,采用創造性的達芬奇設計,通過TWIN-TWIN光路設計,成功實現了BB聚焦幾何下的定性定量分析和平行光幾何下的薄膜掠入射GID分析、薄膜反射率XRR分析的全自動切換,而無需對光。

產品型號:D8
更新時間:2025-06-26
廠商性質:代理商
訪問量:4298
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產品:布魯克D8達芬奇X射線衍射儀  
型號:D8Advance  
產地:德國  

布魯克AXS公司全新的D8ADVANCEX射線衍射儀,采用創造性的達芬奇設計,通過TWIN-TWIN光路設計,成功實現了BB聚焦幾何下的定性定量分析和平行光幾何下的薄膜掠入射GID分析、薄膜反射率XRR分析的全自動切換,而無需對光。通過革命性的TWISTTUBE技術,使用戶可以在1分鐘內完成從線光源應用(常規粉末的定性定量分析、薄膜的GID、XRR)到點光源應用(織構、應力、微區)的切換,讓煩人的光路互換、重新對光等問題從此成為歷史!  

X射線衍射儀

高精度的測角儀可以保證在全譜范圍內的每一個衍射峰(注意不是一個衍射峰)的測量峰位和標準峰位的誤差不超過0.01度,布魯克AXS公司提供保證!  
*的林克斯陣列探測器可以提高強度150倍,不僅答復提高設備的使用效率,而且大幅提高了設備的探測靈敏度。

主要應用:
1、物相定性分析  
2、結晶度及非晶相含量分析  
3、結構精修及解析  
4、物相定量分析  
5、點陣參數精確測量  
6、無標樣定量分析  
7、微觀應變分析  
8、晶粒尺寸分析  
9、原位分析  
10、殘余應力  
11、低角度介孔材料測量  
12、織構及ODF分析  
13、薄膜掠入射  
14、薄膜反射率測量  
15、小角散射
 
技術指標:  
Theta/theta立式測角儀  
2Theta角度范圍:-110~168°  
角度精度:0.0001度  
Cr/Co/Cu靶,標準尺寸光管  
探測器:林克斯陣列探測器、林克斯XE陣列探測器  
儀器尺寸:1868x1300x1135mm  
重量:770kg  

TWIN / TWIN 光路
布魯克獲得專屬發明的TWIN-TWIN光路設計極大地簡化了D8 ADVANCE的操作,使之適用于多種應用和樣品類型。為便于用戶使用,該系統可在4種不同的光束幾何之間進行自動切換。該系統無需人工干預,即可在Bragg-Brentano粉末衍射幾何和不良形狀的樣品、涂層和薄膜的平行光束幾何以及它們之間進行切換,且無需人工干預,是在環境下和非環境下對包括粉末、塊狀物體、纖維、片材和薄膜(非晶、多晶和外延)在內的所有類型的樣品進行分析的理想選擇。

X射線衍射儀


動態光束優化(DBO)
布魯克獨_有的DBO功能為X射線衍射的數據質量樹立了全新的重要基準。馬達驅動發散狹縫、防散射屏和可變探測器窗口的自動同步功能,可為您提供無可_替代的數據質量——尤其是在低2?角度時。除此之外,LYNXEYE全系列探測器均支持DBO:SSD160-2,LYNXEYE-2和LYNXEYE XE-T。

X射線衍射儀


LYNXEYE XE-T
LYNXEYE XE-T是LYNXEYE系列探測器的旗艦產品。它是目前市面上只有這一個一款可采集0D、1D和2D數據的能量色散探測器,適用于所有波長(從Cr到Ag),具有頂點的計數率和更好的角分辨率,是所有X射線衍射和散射應用的理想選擇。

LYNXEYE XE-T具有優于380 eV的能量分辨率,著實出色,是市面上性能更好的熒光過濾器探測器系統。借助它,您可在零強度損失下對由激發的鐵熒光進行100%過濾,而且無需金屬濾波片,因此數據也不會存在偽影,如殘余K?和吸收邊。同樣,也無需用到會除去強度的二級單色器。

X射線衍射儀

XRPD方法:

· 鑒別晶相和非晶相,并測定樣品純度

· 對多相混合物的晶相和非晶相進行定量分析

· 微觀結構分析(微晶尺寸、微應變、無序…)

· 熱處理或加工制造組件產生的大量殘余應力

· 織構(擇優取向)分析

· 指標化、從頭晶體結構測定和晶體結構精修


X射線衍射儀

對分布函數分析

對分布函數(PDF)分析是一種分析技術,它基于Bragg以及漫散射(“總散射"),提供無序材料的結構信息。其中,您可以通過Bragg衍射峰,了解材料的平均晶體結構的信息(即長程有序),通過漫散射,表征其局部結構(即短程有序)。

就分析速度、數據質量以及對非晶、弱晶型、納米晶或納米結構材料的分析結果而言,D8 ADVANCE和TOPAS軟件替代了市面上性能更好的PDF分析解決方案:

· 相鑒定

· 結構測定和精修

· 納米粒度和形狀


X射線衍射儀

薄膜和涂層

薄膜和涂層分析采用的原理與XRPD相同,不過進一步提供了光束調節和角度操控功能。典型示例包括但不限于相鑒定、晶體質量、殘余應力、織構分析、厚度測定以及組分與應變分析。在對薄膜和涂層進行分析時,著重對厚度在nm和µm之間的層狀材料進行特性分析(從非晶和多晶涂層到外延生長薄膜)。

D8 ADVANCE和DIFFRAC.SUITE軟件可進行以下高質量的薄膜分析:

· 掠入射衍射

· X射線反射法

· 高分辨率X射線衍射

· 倒易空間掃描

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